DNP atteint une résolution de motif fine sur les photomasques de lithographie EUV pour la génération au-delà de 2 nm
La société commence à fournir des échantillons de photomasques EUV à haute ouverture numérique pour les semi-conducteurs de nouvelle générationTOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO : 7912) a réussi à atteindre la résolution de motif fine requise pour les masques photographiques destinés aux semi-conducteurs logiques de la génération au-delà de 2 nm (nm : 10-9 mètre)1 qui prennent en charge la lithographie dans l’extrême ultraviolet (EUV), un processus de pointe dans la fabrication des semi-conducteurs.
DNP a également achevé l’évaluation des critères pour les photomasques compatibles à haute ouverture numérique2, l’application envisagée pour les semi-conducteurs de nouvelle génération au-delà de la génération 2 nm, et a commencé à fournir des photomasques d’éval...